A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.
摘要提出了一种新的空心微针阵
加工方法，利用三次同步辐射
光和显影过程来加工微针。
光；长
光；长光拍摄的照片A new fabrication method for hollow microneedle array is proposed with three times exposures in deep X-ray lithography of synchrotron radiation and the development procedure.
摘要提出了一种新的空心微针阵加工方法，利用三次同步辐射光和显影过程来加工微针。
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